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Alcu Sputtering Target Hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung nach Maß

Aluminium Kupfer

Kurze Beschreibung:

Kategorie

Legierungs-Sputtering-Target

Chemische Formel

AlCu

Komposition

Aluminium Kupfer

Reinheit

99,9 %, 99,95 %, 99,99 %

Gestalten

Platten,Spaltentargets,Bogenkathoden,Sonderanfertigung

Produktionsprozess

Vakuumschmelzen, PM

Verfügbare Größe

L ≤ 200 mm, B ≤ 200 mm


Produktdetail

Aluminium-Kupfer-Sputtertargets eignen sich aufgrund ihrer hohen Härte, Zugfestigkeit und ihres geringen Gewichts perfekt für eine Reihe von Branchen und Anwendungen.Es hat normalerweise einen Kupfergehalt von 1-3% und hat ähnliche chemische Eigenschaften wie Aluminium.AlCu hat hohe mechanische Eigenschaften, eine hervorragende Bearbeitbarkeit und Hochtemperatureignung, sodass es das geeignete Material für eine Hochleistungs-Aluminiumlegierung sein könnte.Sputtertargets aus einer hochreinen AlCu-Legierung könnten in einem breiten Spektrum industrieller Bereiche von Halbleiter- und elektronischen Funktionskomponenten verwendet werden.

Rich Special Materials ist auf die Herstellung von Sputtertargets spezialisiert und kann Aluminium-Chrom-Sputtermaterialien gemäß den Spezifikationen des Kunden herstellen.Unsere Produkte zeichnen sich durch hervorragende mechanische Eigenschaften, homogene Struktur, polierte Oberfläche ohne Seigerungen, Poren oder Risse aus.Für weitere Informationen kontaktieren Sie uns bitte.


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