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Alsicu Alloy Sputtering Target Hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung nach Maß

Aluminium Silizium Kupfer

Kurze Beschreibung:

Kategorie

Legierungs-Sputtering-Target

Chemische Formel

AlSiCu

Komposition

Aluminium-Silizium-Kupfer

Reinheit

99,9 %, 99,95 %, 99,99 %

Gestalten

Platten,Spaltentargets,Bogenkathoden,Sonderanfertigung

Produktionsprozess

Vakuumschmelzen

Verfügbare Größe

L ≤ 2000 mm, B ≤ 200 mm


Produktdetail

Aluminium-Silizium-Kupfer-Legierung wird mittels Vakuumschmelz- und Verformungstechnik hergestellt.Es hat eine hohe Reinheit, eine homogene Mikrostruktur und eine verfeinerte Korngröße und wird in einer Reihe von Anwendungen und Branchen eingesetzt, darunter PVD-Beschichtung, Vakuumofenkomponenten und Röntgenstrahl-Sputtering-Targets.Es ist auch das Beschichtungsmaterial für integrierte Schaltungen im großen Maßstab aufgrund seiner einzigartigen Kombination wünschenswerter Eigenschaften, einschließlich geringem Gewicht, guter Wärmeleitfähigkeit, Härte, Zähigkeit und Korrosionsbeständigkeit.

Rich Special Materials ist auf die Herstellung von Sputtertargets spezialisiert und kann Aluminium-Silizium-Kupfer-Sputtermaterialien gemäß den Spezifikationen des Kunden herstellen.Unsere Produkte zeichnen sich durch hervorragende mechanische Eigenschaften, homogene Struktur, polierte Oberfläche ohne Seigerungen, Poren oder Risse aus.Für weitere Informationen kontaktieren Sie uns bitte.


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