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Alsncu Sputtering Target Hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung nach Maß

Aluminium-Zinn-Kupfer

Kurze Beschreibung:

Kategorie

Legierungs-Sputtering-Target

Chemische Formel

AlSnCu

Komposition

Aluminium-Zinn-Kupfer

Reinheit

99,7 %, 99,9 %, 99,95 %, 99,99 %

Gestalten

Platten,Spaltentargets,Bogenkathoden,Sonderanfertigung

Produktionsprozess

Vakuumschmelzen, PM

Verfügbare Größe

L ≤ 2000 mm, B ≤ 200 mm


Produktdetail

Beschreibung des Aluminium-Zinn-Kupfer-Sputtertargets

Aluminium-Zinn-Kupfer-Sputtertargets werden aufgrund ihrer hohen Konsistenz, die durch den Walzprozess verliehen wird, normalerweise für die Motorbeschichtung verwendet.Zinn hat einen niedrigen Reibungskoeffizienten, was die erste Überlegung bei seiner Verwendung als Lagermaterial ist.Zinn ist strukturell ein schwaches Metall, und wenn es in Lageranwendungen verwendet wird, wird es mit Kupfer und Aluminium legiert, um die Härte, Zugfestigkeit und Ermüdungsbeständigkeit zu erhöhen.Die Aluminium-Zinn-Kupfer-Legierung hat eine mäßige Härte und eine hohe Verschleißfestigkeit, was sie zu einer geeigneten Wahl für Pleuelstangen und Axiallager in Hochleistungsmotoren macht.Es zeigt eine hervorragende Beständigkeit gegen Korrosion durch Ölabbauprodukte und eine gute Einbettbarkeit, insbesondere in staubigen Umgebungen.

Unsere typischen AlSnCu Produkte und Eigenschaften

Al-18Sn-1CuGew.-%

Al-25Sn-1CuGew.-%

Al-49Sn-1CuGew.-%

Reinheit(%)

99,8/99,95

99,8/99,95

99,8/99,95

Dichte(g/cm3

3.1

3.2

3,95

Verfahren

Besetzung+rollen

Besetzung+rollen

Besetzung+rollen

Aluminium-Zinn-Kupfer-Sputtering-Target-Verpackung

Unser Aluminium-Zinn-Kupfer-Sputtertarget ist äußerlich deutlich gekennzeichnet und gekennzeichnet, um eine effiziente Identifizierung und Qualitätskontrolle zu gewährleisten.Es wird größte Sorgfalt darauf verwendet, Schäden zu vermeiden, die während der Lagerung oder des Transports verursacht werden könnten.

Kontakt aufnehmen

Die Aluminium-Zinn-Kupfer-Sputtertargets von RSM sind von ultrahoher Reinheit und einheitlich.Sie sind in verschiedenen Formen, Reinheiten, Größen und Preisen erhältlich.Wir sind spezialisiert auf die Herstellung von hochreinen Dünnfilm-Beschichtungsmaterialien mit hervorragender Leistung sowie höchstmöglicher Dichte und kleinstmöglichen durchschnittlichen Korngrößen für den Einsatz in der Formbeschichtung, Dekoration, Autoteile, Low-E-Glas, integrierte Halbleiterschaltungen, Dünnfilm Widerstand, Grafikdisplay, Luft- und Raumfahrt, magnetische Aufzeichnung, Touchscreen, Dünnschicht-Solarbatterie und andere PVD-Anwendungen (Physical Vapour Deposition).Bitte senden Sie uns eine Anfrage für aktuelle Preise für Sputtertargets und andere nicht aufgeführte Abscheidungsmaterialien.


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