Sputtertarget aus AlTi-Legierung mit hoher Reinheit

Die Anforderung an die Targetqualität beim Sputterbeschichten ist höher als die der traditionellen Werkstoffindustrie.Die gleichmäßige Mikrostruktur des Targets wirkt sich direkt auf die Sputterleistung aus.Wir haben ein vollständiges Qualitätsmanagementsystem und wählen hochreine Rohstoffe aus und mischen sie gründlich, um Homogenität zu gewährleisten.Das Sputtertarget aus einer Aluminium-Titan-Legierung wird durch ein Vakuum-Heißpressverfahren hergestellt.

Unsere Aluminium-Titan-Sputtertargets könnten eine hervorragende oxidationsbeständige Nitridbeschichtung, Titan-Aluminium-Nitrid (TiAlN), bieten.TiAlN ist der aktuelle Mainstream als Folie für Schneidwerkzeuge, Gleitteile und Tribobeschichtungen.Es hat eine hohe Härte, Zähigkeit, Verschleißfestigkeit und Oxidationstemperatur.