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Cocraly Alloy Sputtering Target Hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung nach Maß

Kobalt Chrom Aluminium Yttrium

Kurze Beschreibung:

Kategorie

Legierungs-Sputtering-Target

Chemische Formel

CoCrAlY

Komposition

Kobalt Chrom Aluminium Yttrium

Reinheit

99,9 %, 99,95 %, 99,99 %

Gestalten

Platten,Spaltentargets,Bogenkathoden,Sonderanfertigung

Produktionsprozess

Vakuumschmelzen

Verfügbare Größe

L ≤ 200 mm, B ≤ 200 mm


Produktdetail

Beschreibung des Kobalt-Chrom-Aluminium-Yttrium-Sputtertargets

Das Kobalt-Chrom-Aluminium-Yttrium-Sputtertarget ist eine Legierung auf Kobaltbasis mit Zusatz von Chrom-Aluminium- und Yttrium-Elementen.Es zeigt ein hervorragendes korrosionsbeständiges Verhalten in geschmolzenem Salzmedium (Natriumsulfat, Natriumnitrat, Natriumcarbonat, Calciumsulfat, Calciumsulfat, Natriumchlorid, Kaliumchlorid, Natriumchlorid, Natriumsulfat) bei erhöhten Temperaturen.Chrom-Aluminium-Yttrium könnte unterschiedliche Verhältnisse aufweisen, abhängig von der Betriebsumgebung der Schichten.Normalerweise weist die Legierung eine zweiphasige Struktur auf, während der Gehalt an Chrom 20–40 % (Gew.), Aluminium 5–20 % (Gew.) und Yttrium 0,5 % (Gew.) beträgt.

Kobalt-Chrom-Aluminium-Yttrium-Targets könnten auf der Oberfläche von Hochtemperaturkomponenten abgeschieden werden, die in der Luft- und Raumfahrt-, Flugzeug- und Gasturbinenindustrie verwendet werden.Eine solche Schicht könnte die Lebensdauer um zehntausend Stunden verlängern.

Kobalt-Chrom-Aluminium-Yttrium-Sputtering-Target-Verpackung

Unser CoCrAlY-Sputtertarget ist äußerlich deutlich gekennzeichnet und gekennzeichnet, um eine effiziente Identifizierung und Qualitätskontrolle zu gewährleisten.Es wird größte Sorgfalt darauf verwendet, Schäden zu vermeiden, die während der Lagerung oder des Transports verursacht werden könnten.

Kontakt aufnehmen

Die Kobalt-Chrom-Aluminium-Yttrium-Sputtertargets von RSM sind von ultrahoher Reinheit und einheitlich.Sie sind in verschiedenen Formen, Reinheiten, Größen und Preisen erhältlich.Wir sind spezialisiert auf die Herstellung von hochreinen Dünnfilm-Beschichtungsmaterialien mit hervorragender Leistung sowie höchstmöglicher Dichte und kleinstmöglichen durchschnittlichen Korngrößen für den Einsatz in der Formbeschichtung, Dekoration, Autoteile, Low-E-Glas, integrierte Halbleiterschaltungen, Dünnfilm Widerstand, Grafikdisplay, Luft- und Raumfahrt, magnetische Aufzeichnung, Touchscreen, Dünnschicht-Solarbatterie und andere PVD-Anwendungen (Physical Vapour Deposition).Bitte senden Sie uns eine Anfrage für aktuelle Preise für Sputtertargets und andere nicht aufgeführte Abscheidungsmaterialien.


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