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Cocrta Alloy Sputtering Target Hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung nach Maß

Kobalt-Chrom-Tantal

Kurze Beschreibung:

Kategorie

Legierungs-Sputtering-Target

Chemische Formel

CoCrTa

Komposition

Kobalt-Chrom-Tantal

Reinheit

99,9 %, 99,95 %, 99,99 %

Gestalten

Platten,Spaltentargets,Bogenkathoden,Sonderanfertigung

Produktionsprozess

Vakuumschmelzen

Verfügbare Größe

L ≤ 200 mm, B ≤ 200 mm


Produktdetail

Kobalt-Chrom-Tantal-Sputtertargets werden durch Gießverfahren und Vakuumschmelzen hergestellt.und werden dann in die gewünschte Zielform geformt.Es hat eine hohe Reinheit und eine homogene Mikrostruktur.Co-Cr-Ta war aufgrund seiner magnetischen Eigenschaften früher das kritische Material für magnetische Aufzeichnungen: hohe Koerzitivfeldstärke, geringes Rauschen und ausgezeichnete Rechteckigkeit.

Rich Special Materials ist auf die Herstellung von Sputtertargets spezialisiert und kann Kobalt-Chrom-Tantal-Sputtermaterialien gemäß den Spezifikationen des Kunden herstellen.Für weitere Informationen kontaktieren Sie uns bitte.


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