Sputtertarget aus CoCrTa-Legierung, hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung, maßgeschneidert
Kobalt-Chrom-Tantal
Kobalt-Chrom-Tantal-Sputtertargets werden durch Gussverfahren und Vakuumschmelzen hergestellt.und werden dann in die gewünschte Zielform gebracht.Es weist eine hohe Reinheit und eine homogene Mikrostruktur auf.Co-Cr-Ta war aufgrund seiner magnetischen Eigenschaften früher das entscheidende Material für die magnetische Aufzeichnung: hohe Koerzitivfeldstärke, geringes Rauschen und ausgezeichnete Rechtwinkligkeit.
Rich Special Materials ist auf die Herstellung von Sputtertargets spezialisiert und kann Kobalt-Chrom-Tantal-Sputtermaterialien gemäß den Spezifikationen der Kunden herstellen.Für weitere Informationen kontaktieren Sie uns bitte.