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Cucr Sputtering Target Hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung nach Maß

Kupfer Chrom

Kurze Beschreibung:

Kategorie

Legierungs-Sputtering-Target

Chemische Formel

CuCr

Komposition

Kupfer Chrom

Reinheit

99,9 %, 99,95 %, 99,99 %

Gestalten

Platten,Spaltentargets,Bogenkathoden,Sonderanfertigung

Produktionsprozess

Vakuumschmelzen, PM

Verfügbare Größe

L ≤ 200 mm, B ≤ 200 mm


Produktdetail

Das Sputtertarget aus einer Kupfer-Chrom-Legierung ist ein Material auf Cu-Basis, dem ein Chromelement hinzugefügt wurde.Es hat eine hohe mechanische Festigkeit und Härte, eine ausgezeichnete elektrische und Wärmeleitfähigkeit.Die Cu-Cr-Legierung hat aufgrund ihrer spezifischen Eigenschaften eine Vielzahl von Anwendungen gewonnen, die Geräte unter hohen Temperaturen betreiben: Hochtemperatureignung, Oxidationsbeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit und Bearbeitbarkeit.

Kupfer-Chrom-Material hat eine hohe Härte, Verschleißfestigkeit, Biegefestigkeit, Rissfestigkeit und eine hohe Übergangstemperatur.ist eine Art erneuerbare Energie.Das vorhandene dreiwertige Chrom stellt keine Gefahr für die menschliche Gesundheit dar.Es ist auch ein übliches leitendes Material.Kupfer-Chrom wurde ausgiebig in optoelektronischen Technologieprodukten wie Touchpanels, LCDs und Solarzellen verwendet.

Rich Special Materials ist ein Hersteller von Sputtertargets, der Kupfer-Chrom-Sputtermaterialien gemäß den Spezifikationen der Kunden herstellen kann.Für weitere Informationen kontaktieren Sie uns bitte.


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