Cumn Sputtering Target Hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung nach Maß
Kupfer Mangan
Sputtertargets aus einer Kupfer-Mangan-Legierung werden durch Vakuumschmelzen hergestellt.Es hat eine homogene Mikrostruktur, hohe Härte und Antideformationseigenschaften sowie eine lange Lebensdauer.So könnte es helfen, die Herstellungskosten zu reduzieren, weil es unnötig ist, die Sputter-Targets in häufigen Intervallen auszutauschen.
Eine Kupfer-Mangan-Legierung könnte auch zur Herstellung von Mangan-Messing und Cu-Ni-Mn-Legierungen verwendet werden.Mangan zeigt eine beträchtliche Feststofflöslichkeit in Kupfer und ist ein wirksames Verstärkungsmittel in fester Lösung.Es könnte die Härte und Festigkeit sowie das Korrosionsbeständigkeitsverhalten bei Meeres-, Chlorid- und Dampfdruck merklich verbessern.
Kupfer ist ein chemisches Element, das aus dem altenglischen Namen Coper stammt, der wiederum aus dem lateinischen „Cyprium aes“ stammt, was ein Metall aus Zypern bedeutet.Es wurde bereits 9000 v. Chr. verwendet und von Menschen aus dem Nahen Osten entdeckt.„Cu“ ist das kanonische chemische Symbol für Kupfer.Seine Ordnungszahl im Periodensystem der Elemente ist 29 mit Standort in Periode 4 und Gruppe 11, die zum d-Block gehören.Die relative Atommasse von Kupfer beträgt 63,546(3) Dalton, die Zahl in Klammern gibt die Unsicherheit an.
Mangan ist ein chemisches Element, das entweder aus dem lateinischen „magnes“, was Magnet bedeutet, oder aus dem schwarzen Magnesiumoxid, „magnesia nigra“, stammt.Es wurde erstmals 1770 erwähnt und von O. Bergman beobachtet.Die Isolierung wurde später von G. Gahn durchgeführt und angekündigt.„Mn“ ist das kanonische chemische Symbol für Mangan.Seine Ordnungszahl im Periodensystem der Elemente ist 25 mit Standort in Periode 4 und Gruppe 7, die zum d-Block gehören.Die relative Atommasse von Mangan beträgt 54,938045(5) Dalton, wobei die Zahl in Klammern die Unsicherheit angibt.
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