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Cuw Sputtering Target Hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung nach Maß

Kupfer Wolfram

Kurze Beschreibung:

Kategorie

Legierungs-Sputtering-Target

Chemische Formel

CuW

Komposition

Kupfer Wolfram

Reinheit

99,9 %, 99,95 %, 99,99 %

Gestalten

Platten,Spaltentargets,Bogenkathoden,Sonderanfertigung

Produktionsprozess

PM

Verfügbare Größe

L ≤ 200 mm, B ≤ 200 mm


Produktdetail

Sputtertargets aus einer Kupfer-Wolfram-Legierung werden mittels Pulvermetallurgie hergestellt.Der Kupfergehalt liegt meist zwischen 10 % und 50 %.Es hat eine ausgezeichnete thermische und elektrische Leitfähigkeit, Hochtemperaturfestigkeit und Duktilität.Bei sehr hohen Temperaturen, z. B. über 3000 °C, wird das Kupfer in der Legierung verflüssigt und verdampft, wodurch eine große Wärmemenge absorbiert und die Oberflächentemperatur des Materials verringert wird.Diese Art von Material wird auch Metallschweißmaterial genannt.

Da die beiden Metalle Wolfram und Kupfer nicht miteinander kompatibel sind, hat die Kupfer-Wolfram-Legierung die geringe Ausdehnung, Verschleißfestigkeit, Korrosionsbeständigkeit von Wolfram und die hohe elektrische und thermische Leitfähigkeit von Kupfer und ist für verschiedene mechanische Bearbeitungen geeignet.Kupfer-Wolfram-Legierungen können gemäß den Benutzeranforderungen für die Herstellung des Kupfer-Wolfram-Verhältnisses und die Größenverarbeitung hergestellt werden.Kupfer-Wolfram-Legierungen verwenden im Allgemeinen pulvermetallurgische Prozesse, um eine Pulver-Batch-Misch-Press-Form-Sinter-Infiltration vorzubereiten.

Rich Special Materials ist auf die Herstellung von Sputtertargets spezialisiert und kann Kupfer-Wolfram-Sputtermaterialien gemäß den Spezifikationen des Kunden herstellen.Für weitere Informationen kontaktieren Sie uns bitte.


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