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Nicralsi Sputtering Target Hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung nach Maß

Nickel-Chrom-Aluminium-Silizium

Kurze Beschreibung:

Kategorie

Legierungs-Sputtering-Target

Chemische Formel

NiCrAlSi

Komposition

Nickel-Chrom-Aluminium-Silizium

Reinheit

99,5 %, 99,9 %, 99,95 %

Gestalten

Platten,Spaltentargets,Bogenkathoden,Sonderanfertigung

Produktionsprozess

Vakuumschmelzen

Verfügbare Größe

L ≤ 1500 mm, B ≤ 200 mm


Produktdetail

Das NiCrAlSi-Sputtertarget wird durch Vakuumschmelzen, Gießen und Heißbehandlung hergestellt, um eine hohe Konsistenz, feine Korngröße und gute Leistung sicherzustellen.

Aufgrund ihres hervorragenden hohen spezifischen Widerstands, ihres guten Korrosionsschutzverhaltens, ihrer hohen Temperaturbeständigkeit und Lötbarkeit wird die Nickel-Chrom-Aluminium-Silizium-Legierung in vielen industriellen Anwendungen, einschließlich Metallurgie, mechanischer Fertigung und Haushaltsgeräten, umfassend eingesetzt.

Rich Special Materials ist auf die Herstellung von Sputtertargets spezialisiert und kann Nickel-Chrom-Aluminium-Silizium-Sputtermaterialien gemäß den Spezifikationen des Kunden herstellen.Für weitere Informationen kontaktieren Sie uns bitte.


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