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Nicrcu Sputtering Target Hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung nach Maß

Nickel-Chrom-Kupfer

Kurze Beschreibung:

Kategorie

Legierungs-Sputtering-Target

Chemische Formel

NiCrCu

Komposition

Nickel-Chrom-Kupfer

Reinheit

99,5 %, 99,7 %, 99,9 %, 99,99 %

Gestalten

Platten,Spaltentargets,Bogenkathoden,Sonderanfertigung

Produktionsprozess

Vakuumschmelzen

Verfügbare Größe

L ≤ 2000 mm, B ≤ 350 mm


Produktdetail

NiCrCu-Sputtertargets werden durch Schmelzen und Gießen von Rohstoffen aus Nickel-Chrom-Kupfer hergestellt.Es hat einen hohen spezifischen Widerstand, einen niedrigen Temperaturkoeffizienten und eine hohe Empfindlichkeit.Nickel und Chrom haben eine ähnliche Oberflächenenergie, und die Zusammensetzung der NiCrCu-Dünnfilmabscheidung ist ähnlich der des Sputtertargets, sodass das Abscheidungsergebnis leicht kontrolliert werden kann.

Rich Special Materials ist auf die Herstellung von Sputtertargets spezialisiert und kann Nickel-Chrom-Kupfer-Sputtermaterialien gemäß den Spezifikationen des Kunden herstellen.Für weitere Informationen kontaktieren Sie uns bitte.


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