Tinb Sputtering Target Hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung nach Maß

Beschreibung des Titan-Niob-Sputtertargets

Titan-Niob-Sputtertargets werden mittels Vakuumschmelzen oder Leistungsmetallurgie hergestellt.Der typische Titangehalt beträgt 66 % (ca. 50 Gew.-%).Es ist ein Material mit außergewöhnlicher Supraleitfähigkeit und könnte durch herkömmliche Verformungs- und Wärmebehandlungsverfahren zu einer Vielzahl praktischer Verbundmaterialien verarbeitet werden.

Titan-Niob-Sputtering-Target-Verpackung

Unser Titan-Niob-Sputtertarget ist äußerlich deutlich gekennzeichnet und gekennzeichnet, um eine effiziente Identifizierung und Qualitätskontrolle zu gewährleisten.Es wird größte Sorgfalt darauf verwendet, Schäden zu vermeiden, die während der Lagerung oder des Transports verursacht werden könnten.

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Die Titan-Niob-Sputtertargets von RSM sind von ultrahoher Reinheit und einheitlich.Sie sind in verschiedenen Formen, Reinheiten, Größen und Preisen erhältlich.

Wir können eine Vielzahl von geometrischen Formen liefern: Röhren, Bogenkathoden, planar oder kundenspezifisch.Unsere Produkte zeichnen sich durch hervorragende mechanische Eigenschaften, eine homogene Mikrostruktur und eine polierte Oberfläche ohne Seigerungen, Poren oder Risse aus.

Wir sind spezialisiert auf die Herstellung von hochreinen Dünnfilm-Beschichtungsmaterialien mit hervorragender Leistung sowie höchstmöglicher Dichte und kleinstmöglichen durchschnittlichen Korngrößen für den Einsatz in der Formbeschichtung, Dekoration, Autoteile, Low-E-Glas, integrierte Halbleiterschaltungen, Dünnfilm Widerstand, Grafikdisplay, Luft- und Raumfahrt, magnetische Aufzeichnung, Touchscreen, Dünnschicht-Solarbatterie und andere PVD-Anwendungen (Physical Vapour Deposition).Bitte senden Sie uns eine Anfrage für aktuelle Preise für Sputtertargets und andere nicht aufgeführte Abscheidungsmaterialien.