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Sputtertarget aus Wolfram-Molybdän-Legierung

WMo Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Featured Image

Kurze Beschreibung:

Kategorie	Legierungs-Sputtering-Target
Chemische Formel	WMo
Komposition	c
Reinheit	99,9 %, 99,95 %, 99,99 %
Gestalten	Platten，Spaltentargets，Bogenkathoden，Sonderanfertigung
Produktionsprozess	Vakuumschmelzen ，PM
Verfügbare Größe	L ≤ 200 mm, B ≤ 200 mm

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Produktdetail

Beschreibung des Vanadium-Sputtertargets

Vanadium ist ein hartes, duktiles Metall mit einem silbrig-grauen Aussehen.Es ist härter als die meisten Metalle und weist eine gute Korrosionsbeständigkeit gegen Laugen und Säuren auf.Sein Schmelzpunkt liegt bei 1890℃ und der Siedepunkt bei 3380℃.Seine Ordnungszahl ist 23 und das Atomgewicht ist 50,9414.Es hat eine kubisch flächenzentrierte Struktur und Oxidationsstufen in seinen Verbindungen von +5, +4, +3 und +2.Es hat einen hohen Schmelzpunkt, Duktilität, Härte und Korrosionsbeständigkeit.

Vanadium wird umfassend in einer Reihe von Industrien und Anwendungen verwendet, wie z. B. Strahltriebwerken, Hochgeschwindigkeitsflugzeugen, Kernreaktoren und dem Legieren von Stahl.

Hochreines Vanadium-Sputtertarget ist ein kritisches Material für Solarzellen und Beschichtungen optischer Linsen.

Chemische Analyse

Reinheit	99,7	99,9	99,95	99,99
Fe	≤0,1	≤0,05	≤0,02	≤0,01
Al	≤0,2	≤0,05	≤0,03	≤0,01
Si	≤0,15	≤0,1	≤0,05	≤0,01
C	≤0,03	≤0,02	≤0,01	≤0,01
N	≤0,01	≤0,01	≤0,01	≤0,01
O	≤0,05	≤0,05	≤0,05	≤0,03
Insgesamt Verunreinigungen	≤0,3	≤0,1	≤0,05	≤0,01

Vanadium-Sputtering-Target-Verpackung

Unser Vanadium-Sputter-Target ist deutlich etikettiert und extern gekennzeichnet, um eine effiziente Identifizierung und Qualitätskontrolle zu gewährleisten.Es wird größte Sorgfalt darauf verwendet, Schäden zu vermeiden, die während der Lagerung oder des Transports verursacht werden könnten.

Kontakt aufnehmen

Die Vanadium-Sputtertargets von RSM sind von ultrahoher Reinheit und einheitlich.Sie sind in verschiedenen Formen, Reinheiten, Größen und Preisen erhältlich.Wir sind spezialisiert auf die Herstellung von hochreinen Dünnfilm-Beschichtungsmaterialien mit hervorragender Leistung sowie höchstmöglicher Dichte und kleinstmöglichen durchschnittlichen Korngrößen für den Einsatz in der Formbeschichtung, Dekoration, Autoteile, Low-E-Glas, integrierte Halbleiterschaltungen, Dünnfilm Widerstand, Grafikdisplay, Luft- und Raumfahrt, magnetische Aufzeichnung, Touchscreen, Dünnschicht-Solarbatterie und andere PVD-Anwendungen (Physical Vapour Deposition).Bitte senden Sie uns eine Anfrage für aktuelle Preise für Sputtertargets und andere nicht aufgeführte Abscheidungsmaterialien.

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