Keramische Targets finden umfangreiche Anwendungen in Bereichen wie Halbleitern, Displays, Photovoltaik und magnetischer Aufzeichnung.Oxidkeramiktargets, Silizidkeramiktargets, Nitridkeramiktargets, Verbundkeramiktargets und Sulfidkeramiktargets sind gängige Arten von Keramiktargets.Unter diesen weisen Oxidkeramik-Targets Eigenschaften wie einen hohen Schmelzpunkt, eine hervorragende Isolierung und Hitzebeständigkeit auf, wodurch sie für fortschrittliche Keramik-Sputtertargets und halbleiterbezogene Keramiktargets geeignet sind.Silizid-Keramik-Targets zeichnen sich durch hohe Härte und gute chemische Stabilität aus und eignen sich daher für Display-Keramik-Targets und halbleiterbezogene Keramik-Targets.Nitrid-Keramik-Targets zeichnen sich durch hohe Härte und gute thermische Stabilität aus und eignen sich daher für Display-Keramik-Targets und halbleiterbezogene Keramik-Targets.Sulfid-Keramik-Targets weisen eine hohe Härte und eine gute chemische Stabilität auf, wodurch sie für Display-Keramik-Targets und halbleiterbezogene Keramik-Targets geeignet sind.
Daher haben Keramiktargets breite Anwendungsaussichten in Bereichen wie Halbleitern, Displays, Photovoltaik und magnetischer Aufzeichnung.
Zeitpunkt der Veröffentlichung: 07.12.2023