Herstellungsverfahren für eine Legierung mit hoher Entropie

In letzter Zeit haben sich viele Kunden nach Legierungen mit hoher Entropie erkundigt.Was ist die Herstellungsmethode für eine Legierung mit hoher Entropie?Lassen Sie es uns nun vom Herausgeber von RSM mit Ihnen teilen.

Die Herstellungsverfahren für Legierungen mit hoher Entropie können im Wesentlichen in drei Arten unterteilt werden: Flüssigkeitsmischung, Feststoffmischung und Gasmischung.Das Mischen von Flüssigkeiten umfasst Lichtbogenschmelzen, Widerstandsschmelzen, Induktionsschmelzen, Bridgman-Erstarrung und laseradditive Fertigung.In der Studie werden die meisten Legierungen mit hoher Entropie durch Lichtbogenschmelzen hergestellt, und das Lichtbogenschmelzen findet in der vakuumdichten Argonumgebung beim Gießen geschmolzener Legierungen statt.Die herzustellende Legierung wird mit einem Vakuum-Lichtbogenschmelzgerät verflüssigt.Die Leimschmelzmaschine ist mit einem Knopftiegel ausgestattet.Das Schmelzen erfolgt mithilfe einer abschmelzenden Wolframelektrode, die Metallpartikel als Ladungen verwendet, um den Lichtbogen zu zünden.Die Kammer wird dann mit einer Turbomolekularpumpe und einer Vorvakuumpumpe gepumpt, um etwa 3 × 10 − 4 Tor zu erhalten.In die Kammer wird Argon eingefüllt, um den Druck leicht zu reduzieren und beim Auftreffen des Lichtbogens ein Plasma zu bilden.Anschließend wird das Schmelzbad mit herkömmlichem Plasma gerührt.Anschließend wird der Vorgang mehrmals wiederholt, um eine gleichmäßige Zusammensetzung zu erreichen.

In jedem Fall führt die Herausforderung, die Komponenten zusammen zu erhitzen, tendenziell zur Bildung eines Untereutektikums.Aufgrund der langsamen Abkühlgeschwindigkeit sind Form und Größe der Blockbarren begrenzt und die Verwendung dieser Technologie zur Herstellung von Legierungen mit hoher Entropie ist relativ teuer.Der Feststoffmischweg umfasst mechanische Legierungs- und anschließende Konsolidierungsprozesse.Einige Studien zeigen, dass mechanisches Legieren eine gleichmäßige und stabile nanokristalline Mikrostruktur erzeugt.Der Gasmischweg umfasst Molekularstrahlepitaxie, Sputterabscheidung, gepulste Laserabscheidung (PLD), Gasphasenabscheidung und Atomlagenabscheidung.