Leistungsanforderungen an Targetmaterialien in der optischen Speicherindustrie

Das in der Datenspeicherindustrie verwendete Targetmaterial erfordert eine hohe Reinheit und Verunreinigungen und Poren müssen minimiert werden, um die Bildung von Verunreinigungspartikeln beim Sputtern zu vermeiden.Das für hochwertige Produkte verwendete Zielmaterial erfordert, dass seine Kristallpartikelgröße klein und gleichmäßig ist und keine Kristallorientierung aufweist.Werfen wir im Folgenden einen Blick auf die Anforderungen der optischen Speicherindustrie an das Zielmaterial?

1. Reinheit

In praktischen Anwendungen variiert die Reinheit der Zielmaterialien je nach Branche und Anforderungen.Insgesamt gilt jedoch: Je höher die Reinheit des Targetmaterials, desto besser ist die Leistung des gesputterten Films.Beispielsweise muss in der optischen Speicherindustrie die Reinheit des Zielmaterials größer als 3N5 oder 4N sein

2. Gehalt an Verunreinigungen

Das Targetmaterial dient beim Sputtern als Kathodenquelle, und Verunreinigungen im Feststoff sowie Sauerstoff und Wasserdampf in den Poren sind die Hauptverschmutzungsquellen für die Abscheidung dünner Filme.Darüber hinaus bestehen besondere Anforderungen an Ziele unterschiedlicher Verwendung.Am Beispiel der optischen Speicherindustrie muss der Verunreinigungsgehalt in Sputtertargets sehr niedrig gehalten werden, um die Qualität der Beschichtung sicherzustellen.

3. Korngröße und Größenverteilung

Normalerweise weist das Targetmaterial eine polykristalline Struktur mit Korngrößen im Mikrometer- bis Millimeterbereich auf.Bei Targets mit derselben Zusammensetzung ist die Sputterrate von feinkörnigen Targets höher als die von grobkörnigen Targets.Bei Targets mit geringeren Korngrößenunterschieden ist auch die Dicke des abgeschiedenen Films gleichmäßiger.

4. Kompaktheit

Um die Porosität im festen Targetmaterial zu verringern und die Filmleistung zu verbessern, ist es im Allgemeinen erforderlich, dass das Sputtertargetmaterial eine hohe Dichte aufweist.Die Dichte des Targetmaterials hängt hauptsächlich vom Herstellungsprozess ab.Das im Schmelz- und Gießverfahren hergestellte Targetmaterial kann sicherstellen, dass im Targetmaterial keine Poren vorhanden sind und die Dichte sehr hoch ist.