Niob-Targetmaterialien werden hauptsächlich in der optischen Beschichtung, der Beschichtung von oberflächentechnischen Materialien und in Beschichtungsindustrien wie Hitzebeständigkeit, Korrosionsbeständigkeit und hoher Leitfähigkeit verwendet.Im Bereich der optischen Beschichtung wird es hauptsächlich in ophthalmologischen optischen Produkten, Linsen, Präzisionsoptiken, großflächigen Beschichtungen, 3D-Beschichtungen und anderen Aspekten eingesetzt.
Das Niob-Targetmaterial wird üblicherweise als bloßes Target bezeichnet.Es wird zunächst mit dem hinteren Kupfertarget verschweißt und dann gesputtert, um Niobatome in Form von Oxiden auf dem Substratmaterial abzuscheiden und so eine Sputterbeschichtung zu erreichen.Mit der kontinuierlichen Vertiefung und Erweiterung der Niob-Target-Technologie und -Anwendung sind die Anforderungen an die Gleichmäßigkeit der Niob-Target-Mikrostruktur gestiegen, was sich hauptsächlich in drei Aspekten äußert: Verfeinerung der Korngröße, keine offensichtliche Texturorientierung und verbesserte chemische Reinheit.
Die gleichmäßige Verteilung der Mikrostruktur und Eigenschaften im gesamten Target ist entscheidend für die Gewährleistung der Sputterleistung von Niob-Targetmaterialien.Die Oberfläche von Niob-Targets in der industriellen Produktion weist in der Regel regelmäßige Muster auf, die die Sputterleistung der Targets stark beeinträchtigen.Wie können wir die Auslastung der Ziele verbessern?
Durch Untersuchungen wurde festgestellt, dass der Gehalt an Verunreinigungen (Zielreinheit) ein wichtiger Faktor ist, der die Reinheit beeinflusst.Die chemische Zusammensetzung der Rohstoffe ist ungleichmäßig und Verunreinigungen sind angereichert.Nach der späteren Walzbearbeitung bilden sich auf der Oberfläche des Niob-Targetmaterials regelmäßige Muster;Durch die Beseitigung der ungleichmäßigen Verteilung der Rohstoffkomponenten und der Anreicherung von Verunreinigungen kann die Bildung regelmäßiger Muster auf der Oberfläche von Niob-Targets vermieden werden.Der Einfluss von Korngröße und Strukturzusammensetzung auf das Zielmaterial kann nahezu vernachlässigbar sein.
Zeitpunkt der Veröffentlichung: 19.06.2023