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Sputtertarget – Nickel-Chrom-Target

Target ist das wichtigste Grundmaterial für die Herstellung dünner Filme.Derzeit umfassen die am häufigsten verwendeten Targetvorbereitungs- und -verarbeitungsmethoden hauptsächlich die Pulvermetallurgietechnologie und die traditionelle Legierungsschmelztechnologie, während wir die technischere und relativ neue Vakuumschmelztechnologie übernehmen.

Bei der Herstellung von Nickel-Chrom-Targetmaterial werden Nickel und Chrom unterschiedlicher Reinheit entsprechend den unterschiedlichen Reinheitsanforderungen der Kunden als Rohstoffe ausgewählt und zum Schmelzen ein Vakuuminduktionsschmelzofen verwendet.Der Schmelzprozess umfasst im Allgemeinen Vakuumextraktion in der Schmelzkammer – Argongas-Waschofen – Vakuumextraktion – Inertgasschutz – Schmelzlegieren – Raffinieren – Gießen – Kühlen und Entformen.

Wir testen die Zusammensetzung der gegossenen Barren und die Barren, die den Anforderungen entsprechen, werden im nächsten Schritt verarbeitet.Anschließend wird der Nickel-Chrom-Barren geschmiedet und gewalzt, um ein gleichmäßiger gewalztes Blech zu erhalten. Anschließend wird das gewalzte Blech gemäß den Anforderungen des Kunden bearbeitet, um das Nickel-Chrom-Target zu erhalten, das den Anforderungen des Kunden entspricht.


Zeitpunkt der Veröffentlichung: 01.02.2023