Willkommen auf unseren Websites!

Was sind die Sputtertargets?Warum ist das Ziel so wichtig?

In der Halbleiterindustrie wird häufig der Begriff Targetmaterialien verwendet, die in Wafermaterialien und Verpackungsmaterialien unterteilt werden können.Verpackungsmaterialien weisen im Vergleich zu Materialien für die Waferherstellung relativ geringe technische Barrieren auf.Der Produktionsprozess von Wafern umfasst hauptsächlich sieben Arten von Halbleitermaterialien und Chemikalien, darunter eine Art von Sputtertargetmaterial.Was ist also das Zielmaterial?Warum ist das Zielmaterial so wichtig?Heute werden wir darüber sprechen, was das Zielmaterial ist!

Was ist das Zielmaterial?

Einfach ausgedrückt ist das Zielmaterial das Zielmaterial, das von geladenen Teilchen mit hoher Geschwindigkeit bombardiert wird.Durch den Austausch verschiedener Targetmaterialien (z. B. Aluminium-, Kupfer-, Edelstahl-, Titan-, Nickeltargets usw.) können unterschiedliche Filmsysteme (z. B. superharte, verschleißfeste, korrosionsbeständige Legierungsfilme usw.) erhalten werden.

Derzeit können (Reinheits-)Sputtertargetmaterialien unterteilt werden in:

1) Metallziele (reines Metallaluminium, Titan, Kupfer, Tantal usw.)

2) Legierungsziele (Nickel-Chrom-Legierung, Nickel-Kobalt-Legierung usw.)

3) Targets aus keramischen Verbindungen (Oxide, Silizide, Karbide, Sulfide usw.).

Je nach Schalter kann es in langes Ziel, quadratisches Ziel und kreisförmiges Ziel unterteilt werden.

Je nach Anwendungsgebiet kann es unterteilt werden in: Halbleiterchip-Targets, Flachbildschirm-Targets, Solarzellen-Targets, Informationsspeicher-Targets, modifizierte Targets, elektronische Geräte-Targets und andere Targets.

Wenn Sie sich dies ansehen, sollten Sie ein Verständnis für hochreine Sputtertargets sowie für das in Metalltargets verwendete Aluminium, Titan, Kupfer und Tantal gewonnen haben.Bei der Herstellung von Halbleiterwafern ist der Aluminiumprozess normalerweise die Hauptmethode zur Herstellung von Wafern mit einer Größe von 200 mm (8 Zoll) und darunter. Die verwendeten Zielmaterialien sind hauptsächlich Aluminium- und Titanelemente.Herstellung von 300-mm-Wafern (12 Zoll), hauptsächlich unter Verwendung fortschrittlicher Kupferverbindungstechnologie, hauptsächlich unter Verwendung von Kupfer- und Tantal-Targets.

Jeder sollte verstehen, was das Zielmaterial ist.Insgesamt wird es mit der zunehmenden Bandbreite an Chipanwendungen und der steigenden Nachfrage auf dem Chipmarkt definitiv zu einem Anstieg der Nachfrage nach den vier gängigen Dünnschichtmetallmaterialien der Branche kommen, nämlich Aluminium, Titan, Tantal und Kupfer.Und derzeit gibt es keine andere Lösung, die diese vier dünnen Metallmaterialien ersetzen kann.


Zeitpunkt der Veröffentlichung: 06.07.2023