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Eisen-Kobalt-Tantal

Fecota Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Featured Image

Kurze Beschreibung:

Kategorie	Legierungs-Sputtering-Target
Chemische Formel	FeCoTa
Komposition	Eisen-Kobalt-Tantal
Reinheit	99,9 %, 99,95 %, 99,99 %
Gestalten	Platten，Spaltentargets，Bogenkathoden，Sonderanfertigung
Produktionsprozess	Vakuumschmelzen, PM
Verfügbare Größe	L ≤ 200 mm, B ≤ 200 mm

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Produktdetail

Eisen-Kobalt-Tantal-Targets sind normalerweise in kreisförmiger Form und kritischen Dünnschichtmaterialien für vertikale magnetische Aufzeichnungsmedien erhältlich.Die beträchtliche Menge an Tantal, die in der Legierung vorhanden ist, würde zu einer Segregation führen und ungelöste Teilchen darstellen.Wir verwenden ein einzigartiges Produktionsverfahren, das die Homogenität der Mikrostruktur gewährleisten und die mechanischen Eigenschaften der Materialien verbessern kann.

Produktname		FeCoTa
Fe/Gew.-%		Gleichgewicht	Gleichgewicht	Gleichgewicht
Co/Gew.-%		21,6 ± 0,5	21,9 ± 0,5	20,2 ± 0,5
Ta/Gew.-%		41,1 ± 0,8	39,4 ± 0,8	44,3 ± 0,8
Gehalt an Metallverunreinigungen（ppm）	Ni	≤100	≤100	≤100
	Al	≤300	≤300	≤300
	Si	≤200	≤200	≤200
Gehalt an Gasverunreinigungen（ppm）	C	≤200	≤200	≤200
	N	≤100	≤100	≤100
	O	≤600	≤600	≤600
	S	≤75	≤75	≤75

Rich Special Materials ist auf die Herstellung von Sputtertargets spezialisiert und kann Eisen-Kobalt-Tantal-Sputtermaterialien gemäß den Spezifikationen der Kunden herstellen.Für weitere Informationen kontaktieren Sie uns bitte.

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