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Fecr Sputtering Target Hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung nach Maß

Eisen Chrom

Kurze Beschreibung:

Kategorie

Legierungs-Sputtering-Target

Chemische Formel

FeCr

Komposition

Eisen Chrom

Reinheit

99,9 %, 99,95 %, 99,99 %

Gestalten

Platten,Spaltentargets,Bogenkathoden,Sonderanfertigung

Produktionsprozess

Vakuumschmelzen, PM

Verfügbare Größe

L ≤ 200 mm, B ≤ 200 mm


Produktdetail

Sputtertargets aus einer Eisen-Chrom-Legierung werden durch Vakuumschmelzen oder Pulvermetallurgie hergestellt.Fe-Cr-Legierung wurde als Grundbestandteil in der Stahlerzeugungsindustrie verwendet.Das Hinzufügen von Chrom zu Stahl verbessert seine Oxidations- und Korrosionsbeständigkeit, während Chrom, das zu Eisenguss hinzugefügt wird, die Härte erhöhen und die Verschleißfestigkeit und Bearbeitbarkeit verbessern würde.

Das Eisen-Chrom-Sputtering-Target wird für Dünnschichtabscheidung, Dekoration, Halbleiter, Displays, LED- und Photovoltaikgeräte, funktionelle Beschichtung sowie andere optische Informationsspeicherindustrie, Glasbeschichtungsindustrie wie Autoglas und Architekturglas, optische Kommunikation usw. verwendet.

Rich Special Materials ist auf die Herstellung von Sputtertargets spezialisiert und kann Eisen-Chronium-Sputtermaterialien gemäß den Spezifikationen des Kunden herstellen.Für weitere Informationen kontaktieren Sie uns bitte.


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