Großhandel Tisi Sputtering Target Hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung nach Maß Hersteller und Lieferant |Reich

Titan Silizium

Tisi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made Featured Image

Kurze Beschreibung:

Kategorie	Legierungs-Sputtering-Target
Chemische Formel	TiSi
Komposition	Titan Silizium
Reinheit	99,7 %, 99,9 %, 99,95 %
Gestalten	Platten，Spaltentargets，Bogenkathoden，Sonderanfertigung
Produktionsprozess	Vakuumschmelzen, PM
Verfügbare Größe	L ≤ 2000 mm, B ≤ 200 mm

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Produktdetail

Beschreibung des Titan-Silizium-Sputtertargets

Eine superharte Nitridbeschichtung konnte gebildet werden, wenn Titan-Silizium während des Abscheidungsprozesses mit Stickstoffgas kombiniert wurde.Das vorhandene Siliziumelement sorgt für ein hohes Oxidationsbeständigkeitsverhalten, während Titan – Härte.Es konnte selbst bei stark erhöhten Temperaturen eine hervorragende Verschleißfestigkeit aufweisen.Durch TiSiN-Beschichtung abgeschiedene Schneidwerkzeuge sind ideal für Hochgeschwindigkeits- und Hartfräsen, insbesondere beim Trockenschneiden, und können mit einigen Superlegierungen wie Legierungen auf Nickel- und Titanbasis umgehen.

Unsere typischen TiSi-Targets und ihre Eigenschaften

	Ti-15Sibeim%	Ti-20Sibeim%	Ti-25Sibeim%	Ti-30Sibeim%
Reinheit (%)	99,9	99,9	99,9	99,9
Dichte（g/cm³）	4.4	4.35	4.3	4.25
GRegen Größe(µm)	200/100	100	100	100
Verfahren	VAR/HÜFTE	HÜFTE	HÜFTE	HÜFTE

Unser Unternehmen verfügt über langjährige Erfahrung in der Herstellung von Sputtertargets für Formschneidwerkzeuge.Ti-15Si at%, hergestellt durch Vakuumschmelzen, hat eine homogene Struktur, eine hohe Reinheit und einen niedrigen Gasgehalt.Außerdem liefern wir auch Ti-15Si at%, Ti-20Si at% und Ti-25Si at%, die mittels Leistungsmetallurgie hergestellt werden.Unsere TiSi-Targets haben hervorragende mechanische Eigenschaften, die sie unanfällig für Rissbildung und strukturelles Versagen machen.

Titan-Silizium-Sputtering-Target-Verpackung

Unser Titan-Silizium-Sputter-Target ist äußerlich deutlich gekennzeichnet und beschriftet, um eine effiziente Identifizierung und Qualitätskontrolle zu gewährleisten.Es wird größte Sorgfalt darauf verwendet, Schäden zu vermeiden, die während der Lagerung oder des Transports verursacht werden könnten.

Kontakt aufnehmen

Die Titan-Silizium-Sputtertargets von RSM sind von ultrahoher Reinheit und einheitlich.Sie sind in verschiedenen Formen, Reinheiten, Größen und Preisen erhältlich.Wir sind spezialisiert auf die Herstellung von hochreinen Dünnfilm-Beschichtungsmaterialien mit hervorragender Leistung sowie höchstmöglicher Dichte und kleinstmöglichen durchschnittlichen Korngrößen für den Einsatz in der Formbeschichtung, Dekoration, Autoteile, Low-E-Glas, integrierte Halbleiterschaltungen, Dünnfilm Widerstand, Grafikdisplay, Luft- und Raumfahrt, magnetische Aufzeichnung, Touchscreen, Dünnschicht-Solarbatterie und andere PVD-Anwendungen (Physical Vapour Deposition).Bitte senden Sie uns eine Anfrage für aktuelle Preise für Sputtertargets und andere nicht aufgeführte Abscheidungsmaterialien.

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