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Nita Sputtering Target Hochreine Dünnschicht-PVD-Beschichtung nach Maß

Nickel-Tantal

Kurze Beschreibung:

Kategorie

Legierungs-Sputtering-Target

Chemische Formel

NiTa

Komposition

Nickel-Tantal

Reinheit

99,9 %, 99,95 %, 99,99 %

Gestalten

Platten,Spaltentargets,Bogenkathoden,Sonderanfertigung

Produktionsprozess

Vakuumschmelzen, PM

Verfügbare Größe

L ≤ 200 mm, B ≤ 200 mm


Produktdetail

Nickel-Tantal-Sputtertargets werden mittels Vakuumschmelzen oder pulvermetallurgischen Verfahren hergestellt.Es hat eine hohe Reinheit und eine homogene Mikrostruktur.

Nickel-Tantal-Sputtertargets werden in großem Umfang in der Luft- und Raumfahrt-, Flugzeug- und Navigationsindustrie eingesetzt.Seine gute Beständigkeit gegenüber Hochtemperatur-Oberflächenreaktivität leitet sich von der beträchtlichen Menge an Tantal ab, die in der Legierung vorhanden ist, die eine hohe Schmelztemperatur von 3000 °C hat.Zur Verbesserung der Eigenschaften werden üblicherweise Aluminium, Yttrium und Chrom zugesetzt.

Rich Special Materials ist auf die Herstellung von Sputtertargets spezialisiert und kann Nickel-Tantal-Sputtermaterialien gemäß den Spezifikationen des Kunden herstellen.Für weitere Informationen kontaktieren Sie uns bitte.


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